基于真空技术开发气体组分及环境参量精确控制成套技术方案，在此基础上开发液晶材料曝光线，为液晶聚合物材料提供良好的阻氧固化环境，为液晶聚合物的图案化光配向提供技术手段，为液晶聚合物相位补偿膜的加工生产提供必备的硬件条件。
技术指标：氮气保护模块，外接高纯氮工作，腔内氧气控制浓度范围：1.0% - 25.0%，氧气浓度监控精度：0.5%。UV曝光模块，365 nm LED 冷光源阵列，紫外功率密度范围：0 - 150 mW/cm2，光强均匀度：>80%，有效光斑尺寸：100×100 mm2。光束整形：DMD,0.95inch,1920×1080@10.8um/pixel。偏振模组：半波片\偏振片，旋转伺服电机@0.1°/plus。运动平台：X-Y二维直线电机运动平台，4inch。伺服聚焦：步进电机/音圈电机(0-200um)。数据格式：GDSII、BMP、dxf。数据分辨率：1.08um。拼接误差：0.2um。加工效率：30cm²/min。其他模块，输入电压：AC 220V，工作温度：-20 ~ 40 ℃。